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单组分硅片清洗剂配方生产技术
光伏电池硅片要想获得高的光电转化效率，必须要有表面清洁的硅晶片, 电池硅片在生产前一定要先清洗,以去除杂质,对硅片的清洗要求是既能去除各类杂质又不破坏硅片性能。
单组分硅片清洗剂主要用在单、多晶硅片表面清洗处理，能有效地清除硅片表面的污染物，使硅片表面洁净如一。产品主要有钾盐、缓蚀剂、螯合剂、助洗剂、表面活性剂、增溶剂等组成，具有良好的去污、清洗性能，能有效去除硅片表面油污、硅片内部金属杂质以及粘附在硅片表面的硅粉、尘埃颗粒等，清洗后能够在硅片表面形成保护膜，防止颗粒二次吸附；产品无刺激性气味，本品对金属离子有很强剥离、络合、洗净效果；产品低泡，有良好的抑泡效果，超声波清洗线使用不会有泡沫溢出，易漂洗，清洗后的硅片表面无残留,硅片制绒及光电性能好；本品缓蚀性好，硅片表面不易产生过腐蚀，清洗后的硅片表面无白斑、花斑、腐蚀等不良，适用于制绒前硅片预清洗以及制绒后的后处理清洗。
技术参数（该技术参数仅供参考，部分参数可能会进行调整优化，以实际参数为准。）特性：低泡，洗净力强，缓蚀性好。化学成分：氢氧化钾、缓蚀剂、络合剂、助洗剂、表面活性剂等；外观气味：淡黄色透明液体；比重：1.20±0.05g/cm3；PH：12.5±0.5(5％水溶液）；工作温度：50-60℃；处理方式；超声浸泡，2.5％左右加水稀释；处理时间：2-3分钟（以实际情况为准）；游离碱度：350±25。
性能优势：1、洗净力强：适合清洗重污垢硅片；2、低泡产品：产品低泡，有良好的抑泡效果；3、缓蚀性好：不腐蚀硅片，不会出现发花现象；4、适用性强：适用于多种硅片清洗场合；5、高浓缩配比：浓缩配方；6、使用成本低：使用方便，添加量少，使用成本低。
技术服务：单组分硅片清洗剂技术资料费280元，含原料介绍、生产配方、工艺流程、使用方法等，提供技术支持。
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